ISBN/价格: | 978-7-118-12284-8:CNY169.00 |
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作品语种: | chi |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | 折射衍射微光学结构的单步光刻与湿法蚀刻原理与应用/.张新宇,谢长生著 |
出版发行项: | 北京:,国防工业出版社:,2021 |
载体形态项: | 211页:;+图:;+24cm |
丛编项: | 现代微纳光学光电成像探测技术丛书 |
提要文摘: | 本书主要内容包括:折射和衍射微光学变换,准连续相位分布的衍射微光学结构,适用于毫米级近场的衍射微光学结构,可见光、红外线以及多谱光学强度图像,复杂波前基础理论;衍射微光学结构的设计与仿真,单步光刻和两步法KOH湿法蚀刻,微光学图像,波前结构的设计与工艺、测试与评估等;宽频激光对抗条件下的非相干成像探测,强度图像与复杂波前出射的基本方法;激光图像发射、静态或动态图像与波前仿真环境构建,图像隐身、基于频谱空间分离的成像探测对抗等。 |
题名主题: | 刻蚀 研究 |
中图分类: | TN405.98 |
个人名称等同: | 张新宇 著 |
个人名称等同: | 谢长生 著 |
记录来源: | CN 安徽时代 20220214 |